Advances in top-down fabrication and processing of vertical SiGe nanowire arrays for future nanoelectronics applications - LAAS-Micro Nano Bio Technologies Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2022

Advances in top-down fabrication and processing of vertical SiGe nanowire arrays for future nanoelectronics applications

J2N-2022_Abstract_Fabrication of vertical SiGe nanowire arrays.pdf (316.48 Ko) Télécharger le fichier
Origine : Fichiers produits par l'(les) auteur(s)

Dates et versions

hal-03771519 , version 1 (21-10-2022)

Identifiants

  • HAL Id : hal-03771519 , version 1

Citer

Jonas Müller, Aurélie Lecestre, Rémi Demoulin, Fuccio Cristiano, J. M. Hartmann, et al.. Advances in top-down fabrication and processing of vertical SiGe nanowire arrays for future nanoelectronics applications. J2N 2022 - Journées Nationales Nanofils semiconducteurs, Sep 2022, Nice, France. ⟨hal-03771519⟩
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