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Etude et caractérisation des films minces lors du procédé de lithographie par nanoimpression
Frederic Lazzarino
Physique [physics]. Université Joseph-Fourier - Grenoble I, 2005. Français. ⟨NNT : ⟩
Theses
tel-00128711v1
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Conception, montage et caractérisation d'un interféromètre achromatique pour l'étude de la lithographie à immersion à 193nm
Anne-Laure Charley
Micro et nanotechnologies/Microélectronique. Institut National Polytechnique de Grenoble - INPG, 2006. Français. ⟨NNT : ⟩
Theses
tel-00147894v1
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Lithographie de nouvelle génération par nanoimpression assistée par UV: étude et développement de matériaux et procédés pour l'application microélectronique
Pauline Voisin
Micro et nanotechnologies/Microélectronique. Université Joseph-Fourier - Grenoble I, 2007. Français. ⟨NNT : ⟩
Theses
tel-00180907v1
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Epitaxies Si/SiGe(C) pour transistors bipolaires avancés
Florence Brossard
Matière Condensée [cond-mat]. Université Joseph-Fourier - Grenoble I, 2007. Français. ⟨NNT : ⟩
Theses
tel-00200095v1
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Ingénierie de mode en optique intégrée sur silicium sur isolant
Philippe Velha
Physique Atomique [physics.atom-ph]. Université Paris Sud - Paris XI, 2008. Français. ⟨NNT : ⟩
Theses
tel-00292092v1
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Simulation électromagnétique utilisant une méthode modale de décomposition en ondelettes
Ana Maria Armeanu
Micro et nanotechnologies/Microélectronique. Université de Grenoble, 2011. Français. ⟨NNT : ⟩
Theses
tel-00690418v1
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Diminution of the lithographic process variability for advanced technology nodes
Anna Szucs
Micro and nanotechnologies/Microelectronics. Université Grenoble Alpes, 2015. English. ⟨NNT : 2015GREAT129⟩
Theses
tel-01278511v1
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Ion beam characterisation of III-V heterostructures for micro and optoelectronic applications
Viktoriia Gorbenko
Micro and nanotechnologies/Microelectronics. Université Grenoble Alpes, 2015. English. ⟨NNT : 2015GREAT140⟩
Theses
tel-01281330v1
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Etude de de l'intégration 3D et des propriétés physiques de nanofils de silicium obtenus par croissance. Réalisation de capacités ultra-denses
Paul-Henry Morel
Theses
tel-00858497v1
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Plasma assisted chemical deposi-tion (CVD/ALD) and integration of Ti(Al)N and Ta(Al)N for sub-20 nm metal gate
Fabien Piallat
Micro and nanotechnologies/Microelectronics. Université de Grenoble, 2014. English. ⟨NNT : ⟩
Theses
tel-01267650v1
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Développement de méthodes génériques de corrélation entre les mesures électriques & physiques des composants et les étapes élémentaires de fabrication
Cyril Alegret
Matière Condensée [cond-mat]. Université Joseph-Fourier - Grenoble I, 2006. Français. ⟨NNT : ⟩
Theses
tel-00122893v1
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Élaboration et caractérisation de matériaux à très faible constante diélectrique de type a-SiOCH élaborés par PECVD : application aux interconnexions des circuits intégrés
Olivier Gourhant
Matériaux. Université Joseph-Fourier - Grenoble I, 2008. Français. ⟨NNT : ⟩
Theses
tel-00373417v1
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Dispositif électro-optique à base de cristaux liquides pour la détection de l'activité neuronale in vitro
Tiphaine Belloir
Micro et nanotechnologies/Microélectronique. Université Grenoble Alpes, 2018. Français. ⟨NNT : 2018GREAT122⟩
Theses
tel-03917101v1
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Détermination simultanée de la mise au point et de la dose d'un équipement de micro-lithographie optique
Nicolas Spaziani
Micro et nanotechnologies/Microélectronique. Université de Grenoble, 2012. Français. ⟨NNT : 2012GRENT125⟩
Theses
tel-01688605v1
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Développement et caractérisation de procédés de gravure des espaceurs Si3N4 pour les technologies FDSOI
Romuald Blanc
Micro et nanotechnologies/Microélectronique. Université de Grenoble, 2014. Français. ⟨NNT : 2014GRENT036⟩
Theses
tel-01292748v1
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Analyse des mécanismes mis en jeu lors de l'élaboration par gravure plasma de structures de dimensions déca-nanométriques : Application au transistor CMOS ultime
Erwine Pargon
Micro et nanotechnologies/Microélectronique. Université de Grenoble, 2004. Français. ⟨NNT : ⟩
Theses
tel-00685653v1
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Etude à l'échelle nanométrique par sonde locale de la fiabilité de diélectriques minces pour l'intégration dans les composants microélectroniques du futur
Pierre Delcroix
Theses
tel-00822926v1
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Etude des propriétés structurales et électriques de réseaux aléatoires de nanofils de silicium. Application à la détection d’ADN.
Pauline Serre
Physique [physics]. Université de Grenoble, 2014. Français. ⟨NNT : ⟩
Theses
tel-01162345v1
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Élaboration de nanostructures à une dimension à base de carbure de silicium
Maelig Ollivier
Matériaux. Universite de Grenoble, 2013. Français. ⟨NNT : ⟩
Theses
tel-01100089v1
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Développement de techniques de fabrication collectives de dispositifs électroniques à nanostructure unique.
Jamal Tallal
Micro et nanotechnologies/Microélectronique. Université Joseph-Fourier - Grenoble I, 2007. Français. ⟨NNT : ⟩
Theses
tel-00197851v1
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Etude et caractérisation avancées des procédés plasma pour les technologies sub - 0.1 µm
David Fuard
Micro et nanotechnologies/Microélectronique. Université d'Orléans, 2003. Français. ⟨NNT : ⟩
Theses
tel-00006610v1
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Propriétés électriques à l'échelle nanométrique des diélectriques dans les structures MIM et MOS
Cédric Sire
Micro et nanotechnologies/Microélectronique. Université Joseph-Fourier - Grenoble I, 2009. Français. ⟨NNT : ⟩
Theses
tel-00442919v1
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Développement d'un procédé innovant pour le remplissage des tranchées d'isolation entre transistors des technologies CMOS avancées
Aurélien Tavernier
Micro et nanotechnologies/Microélectronique. Université de Grenoble, 2014. Français. ⟨NNT : 2014GRENT005⟩
Theses
tel-00987019v1
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Forces mécaniques au sein de l'endothélium
Michel Moussus
Theses
tel-01124193v1
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Etude des propriétés structurales et électriques de réseaux aléatoires de nanofils de silicium. Application à la détection d'ADN
Pauline Serre
Micro et nanotechnologies/Microélectronique. Université de Grenoble, 2014. Français. ⟨NNT : 2014GRENT110⟩
Theses
tel-01317438v1
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Développement de la scatterométrie dynamique pour le suivi en temps réel de procédés. Application à la microélectronique.
Sébastien Soulan
Micro et nanotechnologies/Microélectronique. Université Joseph-Fourier - Grenoble I, 2008. Français. ⟨NNT : ⟩
Theses
tel-00340093v2
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Nanofils de Silicium : Dépôt chimique en phase vapeur assisté par catalyseurs métalliques et prémices d'intégration.
Florian Dhalluin
Matière Condensée [cond-mat]. Université Joseph-Fourier - Grenoble I, 2009. Français. ⟨NNT : ⟩
Theses
tel-00495316v1
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Traitements plasmas Post Gravure pour l'intégration des matériaux SiOCH poreux dans les interconnexions en microélectronique
Régis Bouyssou
Micro et nanotechnologies/Microélectronique. Université de Grenoble, 2009. Français. ⟨NNT : ⟩
Theses
tel-00679654v1
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Développement des techniques de scatterométrie en temps réel pour le suivi des procédés de gravure plasma
Mohamed El Kodadi
Micro et nanotechnologies/Microélectronique. Université de Grenoble, 2010. Français. ⟨NNT : ⟩
Theses
tel-00670095v1
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Étude de l'intégration des matériaux à très faible permittivité diélectrique dans une structure damascène pour les filières technologiques CMOS
Nicolas Posseme
Micro et nanotechnologies/Microélectronique. Université de Grenoble, 2005. Français. ⟨NNT : ⟩
Theses
tel-00685803v1
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