Lithographie par division de pas de réseau pour les circuits logiques avancés - TEL - Thèses en ligne Accéder directement au contenu
Thèse Année : 2014

Lithography pitch division network for advanced logic circuits

Lithographie par division de pas de réseau pour les circuits logiques avancés

Résumé

Today, the lithographic tools used in industry came to their resolution limit in single patterning. In order to continue the reduction of dimensions, it is necessary to use double patterning, but this increase drastically the cost of manufacturing. This thesis focus on the modelisation aspects of two techniques, Sidewal Image Transfer and Directed Self-Assembly, that can help the industry continuing making transistors even smaller, while keeping the costs manageable.
Aujourd'hui, les outils de lithographie utilisés dans l'industrie arrivent à leur limite de résolution en simple exposition. Pour continuer à diminuer les dimensions, il faut utiliser des techniques de double exposition, mais cela entraîne une explosion des coûts de fabrication. Cette thèse se focalise sur les aspects de modélisation de deux techniques, Sidewall Image Transfer et Directed Self-Assembly, qui sont pressenties pour permettre à l'industrie de continuer la réduction des dimensions des transistors, tout en minimisant les coûts.
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Origine : Version validée par le jury (STAR)
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Dates et versions

tel-01135313 , version 1 (25-03-2015)

Identifiants

  • HAL Id : tel-01135313 , version 1

Citer

Sylvain Moulis. Lithographie par division de pas de réseau pour les circuits logiques avancés. Electronique. INSA de Lyon, 2014. Français. ⟨NNT : 2014ISAL0111⟩. ⟨tel-01135313⟩
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