TECHNOLOGIES POUR SOURCES LASER A SEMICONDUCTEURS III-V

Sophie Bouchoule

Accreditation To Supervise Research Year : 2018

TECHNOLOGIES POUR SOURCES LASER A SEMICONDUCTEURS III-V

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Sophie Bouchoule

Function : Author
PersonId : 1377761

Laboratoire de photonique et de nanostructures

Centre de Nanosciences et de Nanotechnologies [Marcoussis]

Keywords

III-V semiconductors lasers and micro-emitters plasma etching of III-V materials photonic devices

lasers et micro-émetteurs à semiconducteurs III-V micro-nanotechnologies physico-chimie de la gravure par plasma des matériaux III-V composants photoniques

Domains

Micro and nanotechnologies/Microelectronics Optics / Photonic Plasmas Condensed Matter [cond-mat]

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Submitted on : Thursday, January 3, 2019-8:17:27 PM

Last modification on : Wednesday, December 11, 2024-2:36:22 PM

Long-term archiving on : Thursday, April 4, 2019-4:14:02 PM

Dates and versions

tel-01969246 , version 1 (03-01-2019)

Identifiers

HAL Id : tel-01969246 , version 1

Cite

Sophie Bouchoule. TECHNOLOGIES POUR SOURCES LASER A SEMICONDUCTEURS III-V. Micro et nanotechnologies/Microélectronique. Université ParisSud XI, 2018. ⟨tel-01969246⟩

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